上海新陽半導體材料股份有限公司日前公布2023年業績快報。快報顯示，去年公司半導體業務增長20.06%，晶圓制造用電鍍液及添加劑系列產品和集成電路制造用清洗系列產品銷售增長迅速。
依托長三角G60科創走廊產業集群優勢和一流科創生態，多年來，上海新陽堅持自主創新，充分挖掘自身潛力，與產業鏈上下游協同發展，堅定不移地圍繞國家被“卡脖子”關鍵工藝材料產品，圍繞公司核心技術持續創新，厚植新質生產力，不斷提升公司在集成電路制造用關鍵工藝材料領域的競爭力，引領行業發展。
攻堅克難，不斷破解“卡脖子”難題
自主研發并掌握“卡脖子”的關鍵技術是企業不斷創新、推動行業發展的必經之路，也是幫助國家擺脫技術掣肘，提升企業國際競爭力的重要一環。“去年，公司在集成電路制造用清洗液、光刻膠及研磨液等產品上都有重大的技術突破，用于晶圓電鍍與晶圓清洗的第三代核心技術已經形成，半導體傳統封裝領域功能性化學材料銷量與市場占有率國內領先。”上海新陽董事、總經理王溯博士說。
一直以來，上海新陽始終堅持以技術為主導，堅持瞄準國際前沿技術，面向全球產業需求，突破國際技術壟斷，填補國內技術空白，致力于集成電路制造用關鍵工藝材料技術及產品開發，產品不斷創新突破，始終保持著技術優勢和行業領先地位。
經過多年的開發和技術儲備，上海新陽在防“卡脖子”的關鍵原材料項目上取得突破性進展，先后研發出面向半導體封裝領域的第一代電子電鍍與電子清洗技術，為我國半導體封裝引線腳工藝加工帶來了一場根本性技術變革與提升；還研發出面向芯片制造領域的第二代電子電鍍與電子清洗技術，填補我國芯片制造銅互連工藝國產材料的空白，實現國產替代和自主供應能力，一舉突破國外企業在這一領域的壟斷。
去年，上海新陽自主研發攻關的防“卡脖子”關鍵原材料項目——非羥胺清洗液項目，已開發出滿足晶圓制造企業要求的無羥胺干法蝕刻后清洗液產品，清洗能力不斷提升，并在國內主流晶圓制造客戶端通過驗證并實現銷售。同時，光刻膠項目研發進展順利，I線、KrF光刻膠產品工藝性能指標不斷優化提升，滿足客戶的工藝需求。目前，光刻膠已具備量產能力，在超20家客戶端提供樣品進行測試驗證，光刻膠產品銷量快速增長。
行穩致遠，始終保持行業領先地位
上海新陽創立于1999年7月，2011年6月在深圳證券交易所創業板上市。20多年來，該企業專注于半導體行業所需功能性化學材料產品及應用技術的研發創新、生產制造和銷售服務，致力于成為集電鍍、清洗、光刻、研磨四大工藝化學材料全覆蓋的優質供應商與應用技術服務商。
除了擁有世界領先水平的用于晶圓電鍍與晶圓清洗核心技術外，上海新陽的芯片銅互連電鍍技術和蝕刻后清洗技術同樣處于國際先進、國內領先地位，填補了國內空白。正是通過不斷的技術創新，上海新陽持續保持著行業內的競爭力優勢，其產品和技術受到廣泛關注和認可，在半導體制造領域頗具知名度和影響力。
2月24日，據國家知識產權局公告，上海新陽取得一項名為“用于選擇性移除硬遮罩的清洗液、其制備方法及應用”的專利授權，該清洗液對多種金屬及電介質緩蝕性強，清洗效果佳，并實現可回收、可多次循環使用，最大使用次數可達10次，大大降低了芯片制造的成本。據悉，截至目前，上海新陽已申請專利479項，其中包含發明專利313項、國際發明專利17項。
“公司已經形成了擁有完整自主可控知識產權的電子電鍍和電子清洗兩大核心技術，我們將持續加大研發投入，圍繞被‘卡脖子’關鍵工藝材料產品持續創新，加快發展新質生產力，行穩致遠，讓上海新陽的技術水平始終保持在行業領先地位。”王溯說。